GABRIEL, Vít, Pavel KOCÁN a Václav HOLÝ. Growth-rate model of epitaxial layer-by-layer growth by pulsed-laser deposition. Physical Review E. American Physical Society, 2022, roč. 106, č. 3, s. 1-9. ISSN 2470-0045. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1103/PhysRevE.106.035302.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Growth-rate model of epitaxial layer-by-layer growth by pulsed-laser deposition
Autoři GABRIEL, Vít (garant), Pavel KOCÁN a Václav HOLÝ (203 Česká republika, domácí).
Vydání Physical Review E, American Physical Society, 2022, 2470-0045.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 2.400
Kód RIV RIV/00216224:14310/22:00128099
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevE.106.035302
UT WoS 000874981300004
Klíčová slova anglicky Growth; Nucleation on surfaces; Thin films; Mean-field and cluster methods
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 18. 1. 2023 14:10.
Anotace
We present a numerical model of epitaxial thin-film growth applicable for pulsed-laser deposition on a single crystalline substrate. The model is based on rate equations describing the time development of monolayer coverages and of densities of movable particles on atomically flat terraces. Numerical solution of the equations showed that the time dependence of surface roughness obeys a scaling law, the exponent of which depends on probabilities of various atomistic processes included in the simulation model. From the time dependence of monolayer coverages we calculated x-ray diffracted intensity in a quasiforbidden anti-Bragg reflection and showed that its oscillatory behavior is affected by these probabilities as well. The results show the possibility to study atomistic processes during the deposition from the time dependence of the anti-Bragg intensity measured during deposition.
VytisknoutZobrazeno: 26. 8. 2024 02:59