Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45.

PEKAŘ, Václav, Jaromír BŘEZINA, David ŠKODA, Ivan OHLÍDAL, Jiří VOHÁNKA, Daniel FRANTA, Pavel FRANTA, Jan DVOŘÁK, Miloslav OHLÍDAL, Václav ŠULC, Petr KLAPETEK a Marek HAVLÍČEK. Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45. 2021.

Základní údaje

Originální název

Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45.

Název anglicky

High reflection coating on the glass substrate within two specifications R >= 98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45, and R >= 98% @ 213 nm for angle of incidence 45.

Autoři

PEKAŘ, Václav, Jaromír BŘEZINA, David ŠKODA, Ivan OHLÍDAL, Jiří VOHÁNKA, Daniel FRANTA, Pavel FRANTA, Jan DVOŘÁK, Miloslav OHLÍDAL, Václav ŠULC, Petr KLAPETEK a Marek HAVLÍČEK

Vydání

2021

---

Další údaje

Typ výsledku

Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

DUV Coating, DUV HR coating, PARMS technology, Magnetron sputtering

---

Anotace

V originále

Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

Anglicky

Implementation of highly reflective layers fitting the requirements for reflectivity in the wavelengths of the deep ultraviolet region, namely 213 nm or 248 nm. The layers for the wavelength of 213 nm were prepared by magnetron sputtering technology using a combination of Al2O3 and SiO2 materials. The layers for the wavelength of 248 nm were prepared by magnetron sputtering using a combination of HfO2 and SiO2 materials. The reflectance parameters reach the values R (213 nm) > 99.5 %, R (248 nm) > 99.3 %.

---

Návaznosti

FV40328, projekt VaV

Název: Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra Investor: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra