Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45.

PEKAŘ, Václav, Jaromír BŘEZINA, David ŠKODA, Ivan OHLÍDAL, Jiří VOHÁNKA, Daniel FRANTA, Pavel FRANTA, Jan DVOŘÁK, Miloslav OHLÍDAL, Václav ŠULC, Petr KLAPETEK a Marek HAVLÍČEK. Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45. 2021.

Základní údaje

• Originální název: Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45.
• Název anglicky: High reflection coating on the glass substrate within two specifications R >= 98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45, and R >= 98% @ 213 nm for angle of incidence 45.
• Autoři: PEKAŘ, Václav, Jaromír BŘEZINA, David ŠKODA, Ivan OHLÍDAL, Jiří VOHÁNKA, Daniel FRANTA, Pavel FRANTA, Jan DVOŘÁK, Miloslav OHLÍDAL, Václav ŠULC, Petr KLAPETEK a Marek HAVLÍČEK.
• Vydání: 2021.

Další údaje

• Typ výsledku: Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• Klíčová slova anglicky: DUV Coating, DUV HR coating, PARMS technology, Magnetron sputtering

Anotace

Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

Anotace anglicky

Implementation of highly reflective layers fitting the requirements for reflectivity in the wavelengths of the deep ultraviolet region, namely 213 nm or 248 nm. The layers for the wavelength of 213 nm were prepared by magnetron sputtering technology using a combination of Al2O3 and SiO2 materials. The layers for the wavelength of 248 nm were prepared by magnetron sputtering using a combination of HfO2 and SiO2 materials. The reflectance parameters reach the values R (213 nm) > 99.5 %, R (248 nm) > 99.3 %.

Návaznosti

• FV40328, projekt VaV: Název: Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra

Investor: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, Realizace vrstevnatých systémů s požadovanými spektrálními závislostmi odrazivosti a propustnosti ve střední ultrafialové oblasti spektra