HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Petr VAŠINA, Rony SNYDERS a Nikolay BRITUN. Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge. Plasma Sources Science and Technology. IOP Publishing Ltd, 2023, roč. 32, č. 4, s. 1-12. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/acc686.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge
Autoři HNILICA, Jaroslav (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí), Rony SNYDERS a Nikolay BRITUN.
Vydání Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing Ltd, 2023, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 3.800 v roce 2022
Kód RIV RIV/00216224:14310/23:00130646
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/acc686
UT WoS 000963848900001
Klíčová slova anglicky sputtering; multipulse; HiPIMS; discharge; LIF; AAS
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 29. 2. 2024 14:42.
Anotace
The behavior of the ground state neutral and singly ionized atoms is studied in multipulse high power impulse magnetron sputtering processes. The time-resolved two-dimensional laser induced fluorescence was used for imaging the discharge volume (density mapping) during the plasma-on and plasma-off time phases. The role of the number of micropulses and delay time between the micropulses in the pulse package is analyzed and discussed systematically. In addition, the propagation of the sputtered particles from the target is investigated.
Návaznosti
90239, velká výzkumná infrastrukturaNázev: CEPLANT II
VytisknoutZobrazeno: 12. 10. 2024 02:21