HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Nikolay BRITUN a Petr VAŠINA. Plasma diagnostics of multi-pulse HiPIMS discharge. In THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS. 2022.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Plasma diagnostics of multi-pulse HiPIMS discharge
Autoři HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Nikolay BRITUN a Petr VAŠINA.
Vydání THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS, 2022.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Stát vydavatele Japonsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky magnetron; sputering; multipulse; OES; LIF
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 8. 1. 2024 13:56.
Anotace
A complex understanding of the physical processes driving the HiPIMS discharge is essential for optimizing thin-film growth and developing more efficient sputtering processes. Ten years ago, it was proposed to split a standard single HiPIMS pulse into several micro-pulses, forming so-called chopped or multi-pulse HiPIMS (m-HiPIMS) [1]. This was done to enhance total ion flux to the substrate while keeping the deposition rate high. In the pulse sequence, many thermalized sputtered atoms are present in the volume after the first pulse, and these atoms can be ionized easier during the subsequent pulses.
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 23:30