2000
Matrix formalism for imperfect thin films
OHLÍDAL, Ivan a Daniel FRANTAZákladní údaje
Originální název
Matrix formalism for imperfect thin films
Autoři
OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, garant) a Daniel FRANTA (203 Česká republika)
Vydání
Acta physica slovaca, Bratislava, Institute of Physics, SAS, 2000, 0323-0465
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Slovensko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 0.465
Kód RIV
RIV/00216224:14310/00:00002316
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000088911400009
Změněno: 22. 12. 2003 00:46, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
Anotace
V originále
In this review paper a uniform matrix formalism enabling us to include the important defects of thin film systems into the formulae for their optical quantities is presented. The following defects are discussed: roughness of the boundaries; inhomogeneity represented by profiles of the refractive indices; transition interface layer and volume inhomogeneity. It is shown that this formalism is relatively very efficient. Thus fact is demonstrated using a theoretical example representing a complicated thin film system exhibiting defects.
Návaznosti
| GA202/98/0988, projekt VaV |
| ||
| GV106/96/K245, projekt VaV |
| ||
| VS96084, projekt VaV |
|