J 2000

Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

ELIÁŠ, Marek, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ and Jan JANČA

Basic information

Original name

Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge

Authors

ELIÁŠ, Marek (203 Czech Republic, guarantor), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic) and Jan JANČA (203 Czech Republic)

Edition

Czechoslovak Journal of Physics, Praha, Academy of Science of the Czech Republic, 2000, 0011-4626

Other information

Language

English

Type of outcome

Článek v odborném periodiku

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impact factor

Impact factor: 0.298

RIV identification code

RIV/00216224:14310/00:00002460

Organization unit

Faculty of Science

UT WoS

000173132300081

Tags

International impact, Reviewed
Změněno: 17/7/2007 17:39, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Abstract

V originále

Characterization of CNx/SiOy thin films prepared in the inductively coupled radio-frequency discharge.

Links

GV106/96/K245, research and development project
Name: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
Investor: Czech Science Foundation, Hard and superhard coatings prepared by unconventional plasma processes
ME 301, research and development project
Name: Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Development and Industrialization of Novel Superhard Nanocrystalline Composite Wear Protective Coatings
ME 367, research and development project
Name: Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Research and development and industrializartion of novel super hard nanocrystalline materials
MSM 143100003, plan (intention)
Name: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study of plasmachemical reactions in non-isothermic low pressure plasma and its interaction with the surface of solid substrates
OC 527.20, research and development project
Name: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Plasmachemical depositions and plasmachemical treatment of surfaces of solid state substrate
VS96084, research and development project
Name: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Common laboratories for applied plasma physics and plasma chemistry in PřF and PedF MU, VA Brno and ÚFP AV ČR in Prague