2000
The plasma diagnostics of the RF torch discharge plasma chemical system
ŠÍCHA, Miloš, Vratislav KAPIČKA, Antonín BRABLEC, Miloš KLÍMA, Pavel SLAVÍČEK et. al.Základní údaje
Originální název
The plasma diagnostics of the RF torch discharge plasma chemical system
Autoři
ŠÍCHA, Miloš, Vratislav KAPIČKA (203 Česká republika), Antonín BRABLEC (203 Česká republika, garant), Miloš KLÍMA (203 Česká republika), Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika), Robert VACULÍK (203 Česká republika) a J.F. BEHNKE
Vydání
Greifswald, International Symposium, on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry- HAKONE VII, Greifswald-Germany 2000, Contributed Papers, s. 509-512, 2000
Nakladatel
University E.- M. Arndt Greifswald
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/00:00002787
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
3-00-006603-9
Klíčová slova anglicky
Torch discharge plasma; surface treatmnet; plasma diagnostics
Změněno: 17. 7. 2008 11:01, doc. Mgr. Pavel Slavíček, Ph.D.
Anotace
V originále
The possibility to use of special configuration of the torch discharge burning in mixture of argon and n-hexan for deposition of CH thin films on Al and Cu substrate is reported. Basic parameters of the diacharge is studied using emission spectroscopy.
Návaznosti
| MSM 143100003, záměr |
|