D 2000

Influence of Discharge Parameters on Composition of Films Deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane/Oxygen Mixtures

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vratislav PEŘINA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Anna MACKOVÁ, Jan JANČA et. al.

Základní údaje

Originální název

Influence of Discharge Parameters on Composition of Films Deposited by PECVD from Hexamethyldisiloxane/Oxygen Mixtures

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Vratislav PEŘINA, Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Anna MACKOVÁ a Jan JANČA (203 Česká republika)

Vydání

Miskolc - Lillafüred, Hungary, Abstracts of Invited Lectures and Contributed Papers, XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases, s. 448-449, 2000

Nakladatel

European Physical Society

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Maďarsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/00:00003105

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

Thin Films; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD; FTIR; Polycarbonate

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 17. 7. 2007 17:38, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

The composition of films, deposited from hexamethyldisiloxane/oxygen mixtures was studied by FTIR transmittance measurements, Rutherford backscattering method (RBS) and elastic recoil detection (ERD). Films were characterized by the ellipsometry, the morphology of the film surfaces was studied by SEM and the mechanical properties of films were characterized by Vickers indentation technique.

Návaznosti

MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VS96084, projekt VaV
Název: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze