1999
Plazmová depozice ochranných vrstev na bázi uhlíku
DVOŘÁK, Pavel, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁZákladní údaje
Originální název
Plazmová depozice ochranných vrstev na bázi uhlíku
Název anglicky
PECVD of protection coatings containing carbon
Autoři
DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, garant)
Vydání
Brno, Materiálové vědy na prahu 3. milénia, s. 314-315, 1999
Nakladatel
Vysoké učení technické v Brně, FSE, UMI
Další údaje
Jazyk
čeština
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/99:00004161
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
80-214-1376-X
Klíčová slova anglicky
PECVD; carbon; DLC; DLC:Si
Změněno: 8. 2. 2008 19:49, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.
V originále
Z plazmatu kapacitně vázaného vf. výboje jsme deponovali tenké vrstvy na bázi uhlíku. Srovnávali jsme optické vlastnosti vrstev deponovaných ze směsi metanu a argonu s vrstvami deponovanými ze směsi HMDSO + metan a HMDSO + metan + Ar.
Anglicky
Carbon films were deposited in capacitively coupled rf glow discharge from several different mixtures on silicon substrates. We compared optical properties in UV-VIS range of diamond like films deposited from mixture of methane and argon with these for carbon films deposited from HMDSO/methane and HMDSO/methane/Ar feeds.
Návaznosti
| GV106/96/K245, projekt VaV |
| ||
| VS96084, projekt VaV |
|