Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Pavel DVOŘÁK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Vratislav PEŘINA, Anna MACKOVÁ, Vladislav NAVRÁTIL a Jan JANČA. Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds. In Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry. Orleans (France): GREMI, CNRS/University of Orleans, 2001, s. 133-138.

Základní údaje

Originální název

Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Vratislav PEŘINA (203 Česká republika), Anna MACKOVÁ, Vladislav NAVRÁTIL (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika)

Vydání

Orleans (France), Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, s. 133-138, 2001

Nakladatel

GREMI, CNRS/University of Orleans

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/01:00004510

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

PECVD; Diamod-like carbon; Hardness; Optical emission spectroscopy ; ion density;

Štítky

Diamod-like carbon, hardness, ion density, optical emission spectroscopy, PECVD

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Anotace

V originále

Low pressure deposition of hard carbon films with addition of silicon and oxide was carried out in the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Film properties like deposition rate, hardness and optical constants depended strongly on tbe HMDSO to methane ratio. Moreover, the self bias voltage at the powered electrode, on which the substrates were placed, depended on this ratio too. Therefore, the plasma parameters were studied by OES and capacitavely coupled planar ion flux probe. It was found, that the temperatures as well as positive ion current density depended on the HMDSO to methane flow rate ratio but not on the self bias voltage that was independently changed with an external dc voltage supply.

---

Návaznosti

GA202/00/P037, projekt VaV	Název: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu Investor: Grantová agentura ČR, Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
ME 301, projekt VaV	Název: Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
ME 367, projekt VaV	Název: Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
MSM 143100003, záměr	Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV	Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů