Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor

VALTR, Miroslav, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Siegmar RUDAKOWSKI. Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor. In JUNIORMAT 01. 1. vyd. Brno: ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie, 2001, s. 277-278. ISBN 80-214-1885-0.

Základní údaje

Originální název

Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor

Autoři

VALTR, Miroslav (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant) a Siegmar RUDAKOWSKI

Vydání

1. vyd. Brno, JUNIORMAT 01, s. 277-278, 2001

Nakladatel

ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/01:00005151

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-214-1885-0

Klíčová slova anglicky

plasma;polymer;films;argon;acetylene;pecvd;pulsed;radio frequency;discharge;profile

Štítky

acetylene, argon, discharge, films, PECVD, plasma, Polymer, profile, pulsed, radio frequency

---

Anotace

V originále

Plasma polymer films were deposited from Argon and acetylene mixture by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in pulsed radio frequency (13.56 MHz) discharges. The discharge on time varied from 50-150 ms and the off time was kept constant at 1900 ms. Rf power during the on time was set for 20 W. Deposition profiles along tubular plug-flow reactor were studied by spectroscopic ellipsometry in ultraviolet/visible range on films deposited on the silicon substrates.