VALTR, Miroslav, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Siegmar RUDAKOWSKI. Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor. In JUNIORMAT 01. 1. vyd. Brno: ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie, 2001, s. 277-278. ISBN 80-214-1885-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Thin Films Deposited from Ar/C2H2 by Pulsed RF PECVD: Deposition Profiles in Tubular Plug-Flow Reactor
Autoři VALTR, Miroslav (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant) a Siegmar RUDAKOWSKI.
Vydání 1. vyd. Brno, JUNIORMAT 01, s. 277-278, 2001.
Nakladatel ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/01:00005151
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-214-1885-0
Klíčová slova anglicky plasma;polymer;films;argon;acetylene;pecvd;pulsed;radio frequency;discharge;profile
Štítky acetylene, argon, discharge, films, PECVD, plasma, Polymer, profile, pulsed, radio frequency
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 17:41.
Anotace
Plasma polymer films were deposited from Argon and acetylene mixture by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) in pulsed radio frequency (13.56 MHz) discharges. The discharge on time varied from 50-150 ms and the off time was kept constant at 1900 ms. Rf power during the on time was set for 20 W. Deposition profiles along tubular plug-flow reactor were studied by spectroscopic ellipsometry in ultraviolet/visible range on films deposited on the silicon substrates.
VytisknoutZobrazeno: 26. 8. 2024 07:10