LI, J. H., J. KULIK a V. HOLY. X-ray diffraction from CuPt-ordered III-V ternary semiconductor alloy films. Phys. Rev. B. USA: The American Phys. Society, 2001, roč. 63, č. 15, s. 5310-5316. ISSN 0163-1829.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název X-ray diffraction from CuPt-ordered III-V ternary semiconductor alloy films
Autoři LI, J. H., J. KULIK a V. HOLY.
Vydání Phys. Rev. B, USA, The American Phys. Society, 2001, 0163-1829.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 3.070
Kód RIV RIV/00216224:14310/01:00005202
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000168215400062
Klíčová slova anglicky CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; DOMAIN-STRUCTURES; LENGTH MISMATCH; PHASE EPITAXY; LAYERS; GAINP; GROWTH; PHOTOLUMINESCENCE; MECHANISM
Štítky CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION, DOMAIN-STRUCTURES, GAINP, growth, LAYERS, LENGTH MISMATCH, mechanism, PHASE EPITAXY, PHOTOLUMINESCENCE
Změnil Změnil: prof. RNDr. Václav Holý, CSc., učo 1656. Změněno: 16. 1. 2002 08:33.
Anotace
A model has been developed to describe x-ray scattering from CuPt-type ordered III-V ternary semiconductor alloys. The model takes into account the size distribution of the two different laminae-shaped variants, the random distribution of antiphase domain boundaries in each variant, and the atomic displacements due to the bond-length difference between the two constitutive binary materials. A synchrotron x-ray source was employed to measure the weak-ordering reflections from CuPt-ordered Ga0.5In0.5P and Al0.5In0.5As samples. By comparing the experimental results and the model calculations, structure information, including the average number of atomic layers in the laminae of each variant, the average antiphase domain size, and the average order parameter in each variant, were obtained. Results from single-variant films and poorly ordered films are also discussed.
Návaznosti
GA202/00/0354, projekt VaVNázev: Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
Investor: Grantová agentura ČR, Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
VS96102, projekt VaVNázev: Laboratoř tenkých vrstev a nanostruktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Laboratoř tenkých vrstev a nanostruktur
VytisknoutZobrazeno: 30. 8. 2024 16:35