2001
Study of Thin Film Defects by Atomic Force Microscopy
KLAPETEK, Petr, Daniel FRANTA a Ivan OHLÍDALZákladní údaje
Originální název
Study of Thin Film Defects by Atomic Force Microscopy
Název česky
Studium defektů tenkých vrstev pomocí mikroskopu atomové síly
Autoři
KLAPETEK, Petr (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika, garant) a Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika)
Vydání
Braunschweig, Proceedings of the 4th Seminar on Quantitative Microscopy and 1st Seminar on Nanoscale Calibration Standards and Methods, od s. 107-117, 11 s. 2001
Nakladatel
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Německo
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/01:00008554
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
3-89701-840-3
Klíčová slova anglicky
AFM
Štítky
Změněno: 25. 12. 2003 00:49, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
V originále
In the contribution results concerning the study of some defects of thin films will be presented. It is shown that surface defects of the upper boundaries of the films such as microroughness, microobjects and facates can be studied quantitatively. Concrete results are presented for the upper boundaries of the films formed by the following materials: HfO2, ZnSe and ZnTe. As for microroughness the values of the basic statistical quantities, i.e. the rms values of the hights, the values of the autocorrelation length and the values of the power spectral density function are presented for the film mentioned. Further, the misrepresentation concernings the results of the AFM measurements of the upper boundaries of the columnar thin films is briefly discussed.
Česky
V tomto příspěvku budou prezentovány výsledky týkající se některých defektů tenkých vrstev.
Návaznosti
| MSM 143100003, záměr |
|