2002
Applications of atomic force microscopy for thin film boundary measurements
KLAPETEK, Petr, Ivan OHLÍDAL a Daniel FRANTAZákladní údaje
Originální název
Applications of atomic force microscopy for thin film boundary measurements
Autoři
KLAPETEK, Petr (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, garant) a Daniel FRANTA (203 Česká republika)
Vydání
Jemná mechanika a optika, Přerov, Physical Institute, ASCR, 2002, 0447-6441
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10306 Optics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/02:00006295
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
Roughness; Atomic Force Microscopy
Štítky
Změněno: 25. 12. 2003 01:03, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
Anotace
V originále
In this article results concerning both the theoretical and experimental studies of the upper boundaries of columnar thin fil ms performed using the atomic force microscopy are presented. Main statistical quantities used to determine the roughness of the columnar thin film upper boundary properties are decribed. The errors due to the tip convolution effects are discussed as well. For the theoretical study the columnar structure obtained by a simple Monte-Carlo simulation is employed. The experime ntal values of the statistical quantities are obtained by measuring the HfO2 (hafnia) and ZrO2 (zirconia) thin films created by vacuum evaporation. Within both the theoretical and experimental studies presented it is shown that the strongest misrepresentation of the measured roughness of the upper boundaries of the columnar thin films originates for the linear dimensions o f the columns smaller or comparable with the linear dimensions of the tip of an atomic force microscope used. The results of the surface reconstruction algorithm effects on improving the values of the statistical parameters are presented too.
Návaznosti
GA101/01/1104, projekt VaV |
| ||
GA202/01/1110, projekt VaV |
|