D 2003

Deposition of protective hydrophobic thin films in surface discharge at atmospheric pressure

SŤAHEL, Pavel; Vilma BURŠÍKOVÁ; Zdeněk NAVRÁTIL; Anna ZÁHORANOVÁ; Jan JANČA et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition of protective hydrophobic thin films in surface discharge at atmospheric pressure

Autoři

SŤAHEL, Pavel (203 Česká republika, garant); Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika); Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika); Anna ZÁHORANOVÁ (703 Slovensko); Jan JANČA (203 Česká republika) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Italy, Proceedings of 16th ISPC, s. 10-14, 2003

Nakladatel

Dep. of Chem. Univ Bari

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Itálie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14330/03:00008601

Organizační jednotka

Fakulta informatiky

Klíčová slova anglicky

Deposition; protective hydrophobic thin films; surface barrier discharge; atmospheric pressure
Změněno: 29. 5. 2004 18:17, RNDr. JUDr. Vladimír Šmíd, CSc.

Anotace

V originále

Deposition of protective hydrophobic thin films in surface discharge at atmospheric pressure

Návaznosti

GA202/02/0880, projekt VaV
Název: Depozice tenkých vrstev a modifikace povrchů v tichém a doutnavém výboji za atmosférického tlaku
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice tenkých vrstev a modifikace povrchů v tichém a doutnavém výboji za atmosférického tlaku
GP202/02/D097, projekt VaV
Název: Využití povrchového výboje buzeného za atmosferického tlaku pro modifikaci povrchů a depozici ochranných polymerních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Využití povrchového výboje buzeného za atmosferického tlaku pro modifikaci povrchů a depozici ochranných polymerních vrstev
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek