J 2003

Raman bands in microwave plasma assisted chemical vapour deposited films

KADLEČÍKOVÁ, Magdaléna, Juraj BREZA, Marián VESELÝ, Zdeněk FRGALA, Vít KUDRLE et. al.

Základní údaje

Originální název

Raman bands in microwave plasma assisted chemical vapour deposited films

Autoři

KADLEČÍKOVÁ, Magdaléna (703 Slovensko), Juraj BREZA (703 Slovensko), Marián VESELÝ (703 Slovensko), Zdeněk FRGALA (203 Česká republika, garant, domácí), Vít KUDRLE (203 Česká republika, domácí), Jan JANČA (203 Česká republika, domácí), Ján JANÍK (703 Slovensko) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)

Vydání

Microelectronics Journal, 2003, 0026-2692

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 0.565

Kód RIV

RIV/00216224:14330/03:00008609

Organizační jednotka

Fakulta informatiky

UT WoS

000186534500013

Klíčová slova anglicky

Microwave plasma assisted chemical vapour deposition; Diamond; Raman spectroscopy

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 4. 2013 11:21, prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D.

Anotace

V originále

Raman spectroscopy is employed to characterize thin diamond films deposited by microwave plasma assisted chemical vapour deposition technique using a gas mixture of methane and hydrogen. The surface morfology of the films was analyzed by scanning electron microscopy. We have identified submicron crystals on (100) facets of diamond crystals which gave rise to bands in the Raman spectrum centred at 1170 and 1456 cm-1.

Návaznosti

MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů

Přiložené soubory