D 2003

Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers

KUČEROVÁ, Zuzana, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ

Základní údaje

Originální název

Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers

Název česky

Plasma enhanced CVD of organisilicon plasma polymers

Autoři

KUČEROVÁ, Zuzana (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, garant) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Prague, WDS 03 Proceedings of contributed papers: Part II. Physics of Plasmas and Ionized media, od s. 330-334, 5 s. 2003

Nakladatel

Matfyzpress

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-86732-18-5

Klíčová slova anglicky

PECVD; FTIR; HMDSO; SiOx

Štítky

Příznaky

Recenzováno
Změněno: 8. 2. 2008 20:24, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

We deposited organisilicon plasma polymer films from hexamethyldisiloxane (HMDSO) and HMDSO/O2 mixtures by plasma enhanced CVD method. Optical constants in ultraviolet-visible range were obtained by spectroscopic ellipsometry. Fourier transform infrared measurements were performed to characterize chemical bonds in the films.

Česky

We deposited organisilicon plasma polymer films from hexamethyldisiloxane (HMDSO) and HMDSO/O2 mixtures by plasma enhanced CVD method. Optical constants in ultraviolet-visible range were obtained by spectroscopic ellipsometry. Fourier transform infrared measurements were performed to characterize chemical bonds in the films.