FRGALA, Zdeněk, Vít KUDRLE, Jan JANČA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Petr VAŠINA, Marcel MEŠKO, Jiří BURŠÍK, M. KADLEČÍKOVÁ a Petr KLAPETEK. Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition. In Proceedings of contributed papers WDS'03. Praha: MFF UK, 2003, s. 341-346.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Autoři FRGALA, Zdeněk (203 Česká republika, garant), Vít KUDRLE (203 Česká republika), Jan JANČA (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Petr VAŠINA (203 Česká republika), Marcel MEŠKO (703 Slovensko), Jiří BURŠÍK (203 Česká republika), M. KADLEČÍKOVÁ (203 Česká republika) a Petr KLAPETEK (203 Česká republika).
Vydání Praha, Proceedings of contributed papers WDS'03, od s. 341-346, 6 s. 2003.
Nakladatel MFF UK
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14330/03:00008619
Organizační jednotka Fakulta informatiky
Klíčová slova anglicky PECVD; diamond; WC; raman spectra; SEM
Štítky Diamond, PECVD, Raman spectra, SEM, WC
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D., učo 2560. Změněno: 6. 6. 2008 12:53.
Anotace
Diamond Growth on silicon and WC=Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Návaznosti
GP202/01/P106, projekt VaVNázev: Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
Investor: Grantová agentura ČR, Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
IBS2041105, projekt VaVNázev: Povrchy a rozhraní v konstrukčních materiálech - aplikace moderních technologií a počítačového modelování
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaVNázev: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VytisknoutZobrazeno: 21. 7. 2024 02:23