D 2003

Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition

FRGALA, Zdeněk, Vít KUDRLE, Jan JANČA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Petr VAŠINA et. al.

Základní údaje

Originální název

Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition

Autoři

FRGALA, Zdeněk (203 Česká republika, garant), Vít KUDRLE (203 Česká republika), Jan JANČA (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Petr VAŠINA (203 Česká republika), Marcel MEŠKO (703 Slovensko), Jiří BURŠÍK (203 Česká republika), M. KADLEČÍKOVÁ (203 Česká republika) a Petr KLAPETEK (203 Česká republika)

Vydání

Praha, Proceedings of contributed papers WDS'03, od s. 341-346, 6 s. 2003

Nakladatel

MFF UK

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14330/03:00008619

Organizační jednotka

Fakulta informatiky

Klíčová slova anglicky

PECVD; diamond; WC; raman spectra; SEM

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 6. 6. 2008 12:53, prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D.

Anotace

V originále

Diamond Growth on silicon and WC=Co by microwave plasma chemical vapor deposition

Návaznosti

GP202/01/P106, projekt VaV
Název: Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
Investor: Grantová agentura ČR, Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
IBS2041105, projekt VaV
Název: Povrchy a rozhraní v konstrukčních materiálech - aplikace moderních technologií a počítačového modelování
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV
Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů