2004
Temperature dependence of ellipsometric spectra of poly(methyl-phenylsilane)
BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ, Olga, Alois NEBOJSA, Karel NAVRÁTIL, Stanislav NEŠPŮREK, Josef HUMLÍČEK et. al.Základní údaje
Originální název
Temperature dependence of ellipsometric spectra of poly(methyl-phenylsilane)
Název česky
Teplotní závislost elipsometrických spekter poly(methyl-phenylsilanu)
Autoři
BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ, Olga (203 Česká republika, garant), Alois NEBOJSA (203 Česká republika), Karel NAVRÁTIL (203 Česká republika), Stanislav NEŠPŮREK (203 Česká republika) a Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika)
Vydání
Thin Solid Films, Elsevier, 2004, 0040-6090
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.647
Kód RIV
RIV/00216224:14310/04:00010108
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000221690000049
Klíčová slova anglicky
temperature; ellipsometric spectra; poly(methyl-phenylsilane);
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 13. 2. 2007 16:32, doc. RNDr. Karel Navrátil, CSc.
V originále
Comprehensive study of the temperature dependence of ultraviolet-visible ellipsometric spectra of thin films of poly(methyl-phenylsilane). It was found the threshold of irreversible changes of its optical response at 373 K and furthermore the average temperature shift of the lowest excitonic band in the reversible regime.The effect of annealing below and above 373 is studied with low- a high-level of the exposure to UV light.
Česky
Souhrnná studie teplotní závislosti UV-VIS elipsometrických spekter tenkých vrstev poly(methyl-phenylsilanu). Byl nalezen práh nevratných změn optické odezvy na 373 K a dále průměrný teplotní posuv nejnižšího excitonového pásu v oblasti vratných změn. Efekt žíhání pod a nad 373 K byl studován při nízkém a vysokém stupni UV expozice.
Návaznosti
| MSM 143100002, záměr |
|