BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ, Olga, Alois NEBOJSA, Karel NAVRÁTIL, Stanislav NEŠPŮREK a Josef HUMLÍČEK. Temperature dependence of ellipsometric spectra of poly(methyl-phenylsilane). Thin Solid Films. Elsevier, 2004, roč. 455/2004, may, s. 278-282. ISSN 0040-6090.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Temperature dependence of ellipsometric spectra of poly(methyl-phenylsilane)
Název česky Teplotní závislost elipsometrických spekter poly(methyl-phenylsilanu)
Autoři BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ, Olga (203 Česká republika, garant), Alois NEBOJSA (203 Česká republika), Karel NAVRÁTIL (203 Česká republika), Stanislav NEŠPŮREK (203 Česká republika) a Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika).
Vydání Thin Solid Films, Elsevier, 2004, 0040-6090.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 1.647
Kód RIV RIV/00216224:14310/04:00010108
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000221690000049
Klíčová slova anglicky temperature; ellipsometric spectra; poly(methyl-phenylsilane);
Štítky ellipsometric spectra, poly(methyl-phenylsilane), Temperature
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: doc. RNDr. Karel Navrátil, CSc., učo 1646. Změněno: 13. 2. 2007 16:32.
Anotace
Comprehensive study of the temperature dependence of ultraviolet-visible ellipsometric spectra of thin films of poly(methyl-phenylsilane). It was found the threshold of irreversible changes of its optical response at 373 K and furthermore the average temperature shift of the lowest excitonic band in the reversible regime.The effect of annealing below and above 373 is studied with low- a high-level of the exposure to UV light.
Anotace česky
Souhrnná studie teplotní závislosti UV-VIS elipsometrických spekter tenkých vrstev poly(methyl-phenylsilanu). Byl nalezen práh nevratných změn optické odezvy na 373 K a dále průměrný teplotní posuv nejnižšího excitonového pásu v oblasti vratných změn. Efekt žíhání pod a nad 373 K byl studován při nízkém a vysokém stupni UV expozice.
Návaznosti
MSM 143100002, záměrNázev: Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 06:25