2004
Mirror effect in PECVD reactor and its explanation via MC-PIC computer simulation
BRZOBOHATÝ, Oto, Vilma BURŠÍKOVÁ a David TRUNECZákladní údaje
Originální název
Mirror effect in PECVD reactor and its explanation via MC-PIC computer simulation
Název česky
Zrcadlový jev v PECVD reaktoru a jeho vysvětlení pomocí MC-PIC počitačové simulace
Autoři
BRZOBOHATÝ, Oto (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a David TRUNEC (203 Česká republika)
Vydání
Czechoslovak Journal of Physics, Prague, Czech Republic, Institute of Physics, Acad. Sci. CR, 2004, 0011-4626
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 0.292
Kód RIV
RIV/00216224:14310/04:00011467
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000226745500006
Klíčová slova anglicky
plasma-material interactions; Monte Carlo/Particle in Cell; plasma simulation; PECVD
Změněno: 26. 5. 2008 12:24, Mgr. Oto Brzobohatý, Ph.D.
V originále
We have studied thin film deposition from methane and thin film sputtering in argon in low pressure rf discharge. We have observed that thickness of a thin film deposited on the upper (grounded) electrode has mirrored substrates placed on the bottom rf powered electrode. The mirror effect has been studied via Monte Carlo - Particle In Cell (MC-PIC) computer simulation. In our explanation the mirror effect is caused by the difference between secondary electron emission coefficient of substrate material and material of the powered electrode. This difference in the secondary electron emission coefficient affects plasma density upon the substrates and this leads to higher or lower deposition rate on the upper electrode. In our simulation we have calculated distribution of impact position for electrons on grounded electrode that have flew from the powered electrode. We have calculated this distribution for ions created in ionization collisions (of secondary electrons with neutrals) too. We have carried out simulation of this distribution for different pressures.
Česky
Při studiu depozice tenkých vrstev pomocí metody PECVD byl pozorován tzv. zrcadlový jev. Zrcadlovým jevem myslíme to, že deponovaná vrstva na vrchní elektrodě odráží substrat na spodní elektrodě. Hrany obrazu nejsou zcela ostré. Tento jev jsem se snažili vzsvětli pomocí počitačových simulací, kde jako hlavní příčinu označujeme rozdílnost sekundární emise substrátů a dolní elektrody. Jako hlavní výsledek naších simulací uvádíme prostorové rozděleni sekundárních elektronů a iontů dopadajících na protější elektrodu.
Návaznosti
| GA202/03/0827, projekt VaV |
|