2004
On the analysis of surface free energy of DLC coatings deposited in low pressure RF discharge
NAVRÁTIL, Zdeněk, Vilma BURŠÍKOVÁ, Pavel SŤAHEL, Martin ŠÍRA, Pavel ZVĚŘINA et. al.Základní údaje
Originální název
On the analysis of surface free energy of DLC coatings deposited in low pressure RF discharge
Autoři
NAVRÁTIL, Zdeněk (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika), Martin ŠÍRA (203 Česká republika) a Pavel ZVĚŘINA (203 Česká republika)
Vydání
Czech. J. Phys. Praha, Institute of Physics Academy of Sciences, 2004, 0011-4626
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 0.292
Kód RIV
RIV/00216224:14310/04:00028900
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000226745800009
Klíčová slova anglicky
RF discharge; PECVD; contact angle; surface energy; acid-base method
Štítky
Příznaky
Recenzováno
Změněno: 5. 1. 2007 12:37, doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D.
Anotace
V originále
The results of statistical study of acid-base approach to the determination of the surface free energy are presented. Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) in low pressure RF discharge was used to prepare diamond-like carbon (DLC) coatings. The plasma deposited films were investigated by means of contact angle technique in order to determine their surface free energy. Drops of various liquids were set on the film surface and the drop profiles were snapped with CCD camera. The obtained contact angle data using several testing liquids were analyzed by three- liquid acid-base method and the results retrieved on the basis of different liquid triplets used were compared. A multiple regression method for a determination of the surface energy from more than three liquids is suggested and its outputs are compared with the results obtained by standard three liquid acid-base approach.
Návaznosti
GA202/02/0880, projekt VaV |
| ||
GP202/02/D097, projekt VaV |
| ||
MSM 143100003, záměr |
|