Deposition of thin organosilicon polymer films in atmospheric pressure glow discharge

TRUNEC, David, Zdeněk NAVRÁTIL, Pavel SŤAHEL, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan ČECH. Deposition of thin organosilicon polymer films in atmospheric pressure glow discharge. Journal of physics D: Applied physics. Bristol, England: IOP Publishing Ltd., 2004, roč. 37, č. 15, s. 2112-2120. ISSN 0022-3727.

Základní údaje

Originální název

Deposition of thin organosilicon polymer films in atmospheric pressure glow discharge

Název česky

Depozice tenkých organosilikonových polymerních vrstev v doutnavém výboji za atmosférického tlaku

Autoři

TRUNEC, David (203 Česká republika, garant), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Jan ČECH (203 Česká republika)

Vydání

Journal of physics D: Applied physics, Bristol, England, IOP Publishing Ltd. 2004, 0022-3727

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 1.642

Kód RIV

RIV/00216224:14310/04:00019785

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000223510100010

Klíčová slova anglicky

atmospheric presure glow discharge; nitrogen; deposition; organosilicon

Štítky

atmospheric presure glow discharge, deposition, Nitrogen, organosilicon

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Anotace

V originále

The atmospheric pressure glow discharge burning in nitrogen with small admixture of organosilicon compounds such as hexamethyldisilazane or hexamethyldisiloxane was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The properties of the discharge were studied by means of optical emission spectroscopy and electrical measurements. The deposited films were characterized by atomic force microscopy, x-ray photoelectron spectroscopy, infrared transmission measurements, ellipsometry, depth sensing indentation technique and contact angle measurements. The films were polymer-like, transparent in the visible range, with uniform thickness and without pinholes. The film hardness varied from 0.3 to 0.6 GPa depending on deposition conditions, the elastic modulus was in the range 15-28 GPa and the surface free energy was in the range 26-45 mJ m-2. The studied films exhibited good adhesion to the substrate.

Česky

Doutnavý výboj za atmosférického tlaku (APGD) hořící v dusíku s malou příměsí organosilikonových sloučenin jako hexametyldisilazan nebo hexametydisiloxan byl použit pro depozici tenkých polymerních vrstev.

---

Návaznosti

GA202/02/0880, projekt VaV	Název: Depozice tenkých vrstev a modifikace povrchů v tichém a doutnavém výboji za atmosférického tlaku Investor: Grantová agentura ČR, Depozice tenkých vrstev a modifikace povrchů v tichém a doutnavém výboji za atmosférického tlaku
GP202/02/D097, projekt VaV	Název: Využití povrchového výboje buzeného za atmosferického tlaku pro modifikaci povrchů a depozici ochranných polymerních vrstev Investor: Grantová agentura ČR, Využití povrchového výboje buzeného za atmosferického tlaku pro modifikaci povrchů a depozici ochranných polymerních vrstev
MSM 143100003, záměr	Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaV	Název: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů