Optical properties of ZnTe films prepared by molecular beam epitaxy

FRANTA, Daniel, Ivan OHLÍDAL, Petr KLAPETEK, Alberto MONTAIGNE-RAMIL, Alberta BONANNI, David STIFTER and Helmut SITTER. Optical properties of ZnTe films prepared by molecular beam epitaxy. Thin Solid Films. Oxford, UK: Elsevier, 2004, vol. 468, 1-2, p. 193-202. ISSN 0040-6090.

Basic information

• Original name: Optical properties of ZnTe films prepared by molecular beam epitaxy
• Name in Czech: Optické vlastnosti vrstev ZnTe připravených molekulovou svazkovou epitaxií
• Authors: FRANTA, Daniel (203 Czech Republic, guarantor), Ivan OHLÍDAL (203 Czech Republic), Petr KLAPETEK (203 Czech Republic), Alberto MONTAIGNE-RAMIL (192 Cuba), Alberta BONANNI (380 Italy), David STIFTER (40 Austria) and Helmut SITTER (40 Austria).
• Edition: Thin Solid Films, Oxford, UK, Elsevier, 2004, 0040-6090.

Other information

• Original language: English
• Type of outcome: Article in a journal
• Field of Study: 10302 Condensed matter physics
• Country of publisher: United Kingdom of Great Britain and Northern Ireland
• Confidentiality degree: is not subject to a state or trade secret
• WWW: URL
• Impact factor: Impact factor: 1.647
• RIV identification code: RIV/00216224:14310/04:00010693
• Organization unit: Faculty of Science
• UT WoS: 000224474500031
• Keywords in English: THIN-FILMS; ROUGH BOUNDARIES; SUBSTRATE; GAAS; DEPENDENCE; CONSTANTS
• Tags: CONSTANTS, dependence, GAAS, rough boundaries, SUBSTRATE, THIN-FILMS

Abstract

In this paper, the optical properties of ZnTe epitaxial thin films prepared by molecular beam epitaxy (MBE) onto GaAs single crystal substrates are studied using the combined optical method employing a simultaneous interpretation of experimental data obtained by means of variable angle spectroscopic ellipsometry (VASE) and near-normal spectroscopic rellectometry (NNSR). The spectral dependences of both the optical constants, i.e. the refractive index and extinction coefficient, characterizing these films are presented within the spectral region 230-850 nm. It is shown that the optical properties of the ZnTe epitaxial films depend on the values of their thickness. This conclusion was found using the model of the optical constants exhibiting a profile across these films. A roughness of the upper boundaries of the ZnTe films and the existence of a very thin native oxide layer (NOL) on these boundaries are taken into account within the optical analysis.

Abstract (in Czech)

V článku jsou studovány optické vlastnosti epitaxních vrstev ZnTe připravených molekulovou svazkovou epitaxií na podložky tvořené monokrystalem GaAs pomocí kombinované optické metody využívající současnou interpretaci experimentálních dat obdržených víceúhlovou spektroskopickou elipsometrií a spektroskopickou reflektometrií. Spektrální závislosti obou optických konstant, tj. indexu lomu a extinkčního koeficientu, charakterizující tyto vrstvy jsou uvedeny ve spektrálním intervalu 230-850 nm. Ukázali jsme, že optické vlastnosti vrstev ZnTe závisí na hodnotě jejich tloušťky. Tento závěr byl nalezen pomocí modelu optických konstant vykazujících profil napříč vrstvami. Drsnost horních rozhraní ZnTe vrstev a existence velmi tenkých přirozených oxidových vrstev na těchto rozhraních jsou brány rovněž v úvahu při provedené optické analýze studovaných vrstev.

Links

• GA202/01/1110, research and development project: Name: Optické a mechanické vlastnosti tenkých vrstev DLC:Si připravených PECVD metodou

Investor: Czech Science Foundation, Optical and mechanical properties of DLC : Si thin films prepared by the PECVD method

• MSM 143100003, plan (intention): Name: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study of plasmachemical reactions in non-isothermic low pressure plasma and its interaction with the surface of solid substrates