OHLÍDAL, Ivan, Miloslav OHLÍDAL, Daniel FRANTA, Vladimír ČUDEK, Vilma BURŠÍKOVÁ a Martin ŠILER. Mechanical stresses studied by optical methods in diamond-like carbon films containing Si and O. In SPIE's 49th Annual Meeting. Bellingham, Washington, USA: SPIE - The International Society for Optical Engineering, 2004, s. 139-147. ISBN 0-8194-5465-6.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Mechanical stresses studied by optical methods in diamond-like carbon films containing Si and O
Název česky Mechanická napětí v diamantu podobných uhlíkových vrstvách obsahující Si a O studovaná pomocí optických metod
Autoři OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, garant), Miloslav OHLÍDAL (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Vladimír ČUDEK (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Martin ŠILER (203 Česká republika).
Vydání Bellingham, Washington, USA, SPIE's 49th Annual Meeting, od s. 139-147, 9 s. 2004.
Nakladatel SPIE - The International Society for Optical Engineering
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/04:00010888
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 0-8194-5465-6
UT WoS 000224726900015
Klíčová slova anglicky DLC films; mechanical stress; two-beam interferometry
Štítky DLC films, mechanical stress, two-beam interferometry
Změnil Změnil: Mgr. Daniel Franta, Ph.D., učo 2000. Změněno: 3. 2. 2006 17:57.
Anotace
In this paper the quantitative dependence of the mechanical stress inside diamond-like carbon films containing Si and O atoms on a flow rate ratio of methane CH4 and hexamethyldisiloxane C6H18Si2O in the deposition mixture is determined. For this purpose the modified Stoney's formula is employed. The important quantities taking place in this formula, i.e. the radius of curvature of the spherical surface of a deformed silicon substrate because of the film stress and the film thickness, are determined using the combined optical method based on two-beam interferometry, variable angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry. It is shown that the influence of the flow rate ratio on the values of the mechanical stresses taking place inside these films is negligible within the experimental accuracy achieved for determining these stresses if the total flow rate of gases used to be constant in the deposition mixture. A discussion of this fact is also performed. The film studied were prepared using the plasma enhanced chemical vapor deposition.
Anotace česky
V tomto článku je určena kvantitativní závislost mechanických napětí uvnitř diamantu podobných uhlíkových vrstev obsahujících Si a O na poměru průtoků metanu a hexamethyldisiloxanu v deposiční směsi. Pro tento účel je využita modifikovaná Stoneyova formule. Významné veličiny vyskytující se v této formuli, tj. poloměr křivosti sférického povrchu křemíkové podložky deformované kvůli napětí ve vrstvě a tloušťka vrstvy, jsou určeny pomocí dvoupaprskové interference, víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie aplikované při kolmém dopadu světla. Je ukázáno, že vliv poměru průtoků na hodnoty mechanického napětí uvnitř vrstev je zanedbatelný v rámci experimentální přesnosti dosažené při určení tohoto napětí, pokud celkový tok plynů v deposiční směsi je konstantní. Diskuse této skutečnosti je také provedena. Studované vrstvy byly připraveny pomocí plasmově podporované chemické deposice.
Návaznosti
GA101/04/2131, projekt VaVNázev: Realizace laboratorního digitálního spektrofotometru pro širokou spektrální oblast
Investor: Grantová agentura ČR, Realizace laboratorního digitálního spektrofotometru pro širokou spektrální oblast
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 3. 8. 2024 10:17