NOVOTNÁ, Jiřina a Vladislav NAVRÁTIL. Matematický popis modelů pro měření tvrdosti tenkých vrstev. In 4th International Conference APLIMAT. I. Bratislava, Slovak Republic: Department of Mathematics, Faculty of Mechanical Engineering, Slovak University of Technology, 2005, s. 241-244. ISBN 80-969264-3-8.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Matematický popis modelů pro měření tvrdosti tenkých vrstev
Název anglicky Mathematical description of the models for thin solid films hardness measuring
Autoři NOVOTNÁ, Jiřina (203 Česká republika) a Vladislav NAVRÁTIL (203 Česká republika, garant).
Vydání I. Bratislava, Slovak Republic, 4th International Conference APLIMAT, od s. 241-244, 4 s. 2005.
Nakladatel Department of Mathematics, Faculty of Mechanical Engineering, Slovak University of Technology
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Slovensko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14410/05:00013602
Organizační jednotka Pedagogická fakulta
ISBN 80-969264-3-8
Klíčová slova anglicky Thin solid films; microhardness; nanohardness; mathematics; models
Štítky mathematics, Microhardness, models, nanohardness, Thin solid films
Příznaky Recenzováno
Změnil Změnil: prof. RNDr. Vladislav Navrátil, CSc., učo 129. Změněno: 2. 6. 2006 16:00.
Anotace
Přehled nejvýznamnějších modelů, vhodných pro měření mikrotvrdosti tenkých vrstev. Modely jsou klasifikovány z hlediska doby vzniku i vhodnosti pro měření mechanických vlastností různých typů vrstev.
Anotace anglicky
The survey of most important models for hardness measurement of thin solid films is presented. The models are divided according to time and also according to opportunity for various kinds of thin solid films.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 13. 5. 2024 18:18