2005
Optical emission spectroscopy of surfatron generated plasma in Ar + O2 and N2 + O2 mixtures
NAVRÁTIL, Zdeněk, Pavel SLAVÍČEK, Vítězslav STRAŇÁK, Michal ŠERÝ, Milan TICHÝ et. al.Základní údaje
Originální název
Optical emission spectroscopy of surfatron generated plasma in Ar + O2 and N2 + O2 mixtures
Název česky
Optická emisní spektroskopie surfatronem buzeného plazmatu ve směsích Ar + O2 a N2 + O2
Autoři
NAVRÁTIL, Zdeněk (203 Česká republika), Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika), Vítězslav STRAŇÁK (203 Česká republika), Michal ŠERÝ (203 Česká republika), Milan TICHÝ (203 Česká republika), David TRUNEC (203 Česká republika, garant), Petr ŠPATENKA (203 Česká republika) a Pavel SŤAHEL (203 Česká republika)
Vydání
Eindhoven, The Netherlands, Proceedings of ICPIG XXVII, od s. 06-178, 4 s. 2005
Nakladatel
Technical University Eindhoven
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Nizozemské království
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00012553
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
90-386-2231-7
Klíčová slova anglicky
emission spectroscopy surfatron microwave
Změněno: 25. 7. 2005 15:05, doc. Mgr. Zdeněk Navrátil, Ph.D.
V originále
In this study surfatron-generated plasma in Ar + O2 and N2 + O2 gas mixtures was studied by means of optical emission spectroscopy. The surfatron powered by a microwave magnetron generator working at frequency 2.45 GHz in the output power range 0 300 W created plasma from the flowing gas in a quartz tube. The total gas flow rate was kept constant at 600 sccm but the ratio of individual gas flows was varied. Paper discusses results of optical emission spectroscopy: axial variations of radiation of various neutral species in the plasma as well as axial development of rotational and vibrational temperature determined from OH and N2 emission.
Česky
Práce shrnuje výsledky optické emisní spektroskopie surfatronem buzeného plazmatu ve směsích Ar+O2 a N2+O2. Jsou prezentována měření axiálních závislostí záření různých zdrojů v plazmatu, stejně jako vývoj a stabilní hodnoty parametrů plazmatu.
Návaznosti
| GA202/05/0777, projekt VaV |
| ||
| GP202/02/D097, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|