2005
Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
OHLÍDAL, Ivan, Miloslav OHLÍDAL, Daniel FRANTA, Vlastimil ČUDEK, Vilma BURŠÍKOVÁ et. al.Základní údaje
Originální název
Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
Název anglicky
Measurement of mechanical stress in thin films using combined optical method
Autoři
OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, garant), Miloslav OHLÍDAL (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Vlastimil ČUDEK (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika) a Martin ŠILER (203 Česká republika)
Vydání
Jemná mechanika a optika, Přerov, Physical Institute, ASCR, 2005, 0447-6441
Další údaje
Jazyk
čeština
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00012755
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
DLC thin films; mechanical stress; double-beam interferometry
Změněno: 7. 2. 2006 20:36, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
V originále
V tomto článku je popsána optická metoda umožňující měření mechanického napětí v tenkých vrstvách. Tato metoda je založena na určování poloměrů zakřivení deformovaných podložek, která vznikají v důsledku existence napětí ve vrstvách vytvořených na těchto podložkách. Hodnoty napětí jsou počítány pomocí modifikované Stoneyovy rovnice. Hodnoty tlouštěk tenkých vrstev, které jsou rovněž potřebné pro výpočet těchto napětí, jsou určeny pomocí metody založené na interpretaci experimentálních dat získaných v rámci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tato kombinovaná optická metoda je využita pro určení hodnot mechanických napětí ve vrstvách DLC (diamond-like carbon) vytvořených na podložkách z monokrystalu křemíku, které obsahují příměsy Si a O. V práci je také studována závislost hodnot napětí v těchto vrstvách na hodnotách poměru průtoků hexamethyldisiloxanu (HMDSO) a metanu.
Anglicky
In this paper an optical method enabling us to measure the mechanical stress in thin films is decribed. This method is based on determination of the curvature radii of the substrates curved originating in consequence of the existence of the stresses inside the films created onto these substrates. The stess values are calculated using the modified Stoney formula. The thin film thicknesses needed for calculating the stresses are determined by means of the method based on interpretation of the experimental data obtained using multiple angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry. This combined optical method is utilized for determination of the mechanical stresses in the DLC (diamond-like carbon) films prepared onto the substrates consisting of silicon single crystal containing impurities Si and O. In the paper the dependence of the stress inside these films on the values of ratio of the flow rates of hexamethyldisoloxane (HMDSO) and methane.
Návaznosti
| GA101/04/2131, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|