D 2005

Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas

ŠMÍD, Radek, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ

Základní údaje

Originální název

Actinometry for understanding PECVD of thin films from O2/HMDSO plasmas

Název česky

Aktinometrie pro porozumění plazmochemické depozice tenkých vrstev z O2/HMDSO plazmatu

Autoři

ŠMÍD, Radek (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Eindhoven, Nizozemí, Proceedings of the XXVII ICPIG, s. 297-300, 2005

Nakladatel

Eindhoven University of Technology, Nizozemí

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00014212

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

90-386-2231-7

Klíčová slova anglicky

actinometry; HMDSO; optical emission spectroscopy

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 9. 1. 2008 11:11, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

We applied actinometry for the calculation of dissociation degree in oxygen CCP discharges used for the deposition from O2/HMDSO plasmas. Dissociation degree exhibited a slight increase with increasing r.f. power and maximum of 20% for 5 Pa of oxygen. This relatively high value was not enough for deposition of SiO2-like films because the HMDSO percentage in the feed was too high at this low oxygen partial pressure. Rapid decrease of dissociation degree to 2-4% for higher oxygen flow rates, i.e. higher pressures resulted in still insufficient oxidation of film precursors.

Česky

Použili jsme aktinometrii pro odhad disociačního koeficientu kyslíku v kapacitně vázaných výbojích používaných při depozicích z 02/HMDSO. Disociační stupeň v čistém kyslíku rostl s rostoucím výkonem a vykazoval maximum 20% při tlaku 5 Pa. Přesto tento disociační stupeň nebyl dostatečně vysoký, aby bylo možné vytvářet vrstvy podobné SiO2, protože při 5 Pa bylo stále ještě velké množství HMDSO ve směsi. Pokles disociačního stupně na 2-4% při vyšších průtocích kyslíku, tedy i tlacích, měl za následek nedostatečnou oxidaci vrstev rostoucích ze směsi obsahující větší procento 02.

Návaznosti

MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaV
Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou