VAŠINA, Petr, Marcel MEŠKO, Mihai GANCIU, Jean BRETAGNE, Caroline BOISSE-LAPORTE, Ludovic DE POUCQUES a Michel TOUZEAU. Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge. Europhysics Letters. Paríž: European Physical Society, 2005, roč. 72, č. 3, s. 390-395, 5 s. ISSN 0295-5075.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Reduction of transient regime in fast preionized high power pulsed magnetron discharge
Název česky Omezení pechodového režimu pi pulzním magnetronovém naprašování
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant), Marcel MEŠKO (703 Slovensko), Mihai GANCIU (642 Rumunsko), Jean BRETAGNE (250 Francie), Caroline BOISSE-LAPORTE (250 Francie), Ludovic DE POUCQUES (250 Francie) a Michel TOUZEAU (250 Francie).
Vydání Europhysics Letters, Paríž, European Physical Society, 2005, 0295-5075.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 2.237
Kód RIV RIV/00216224:14310/05:00012968
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000233556300010
Klíčová slova anglicky pulsed magnetron; sputtering; preionization
Štítky preionization, pulsed magnetron, sputtering
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 23. 2. 2006 16:01.
Anotace
A high-power pulsed-magnetron discharge (several kW/cm2)is described. It operates at pulse duration of the order of few ľs, signicantly shorter than in usual similar devices. The breakdown delay was reduced by using a low-current DC preionization. The study was performed for Cu target in Ar and He bufer gases by optical emission spectroscopy and electrical measurements. Saturation magnetron current is reached in a few ľs which permits to shorten the pulse duration avoiding arc formation. Unusual high current density up to 10A/cm2 induces very fast transition toward the stable self-sputtering regime. High plasma density favours high ion ux to the substrate. Preliminary result on Cu deposit in trenches is reported.
Anotace česky
Prezentace stabilního pulzního magnetronového výboje. Pro stabilizicaci depoziního procesu byla použita preionizace.
Návaznosti
GD202/03/H162, projekt VaVNázev: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 26. 7. 2024 19:40