PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích
ZAJÍČKOVÁ, Lenka. PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích. 2005. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích |
Název anglicky | PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges |
Autoři | ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant). |
Vydání | 2005. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | čeština |
Typ výsledku | Audiovizuální tvorba |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Česká republika |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
WWW | URL |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/05:00014527 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
Klíčová slova anglicky | PECVD; plazmochemická depozice; plazma; plazmová modifikace |
Štítky | PECVD, plazma, plazmochemická depozice, plazmová modifikace |
Změnil | Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 9. 1. 2008 11:17. |
Anotace |
---|
Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů. |
Anotace anglicky |
---|
The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces. |
Návaznosti | |
---|---|
1K05025, projekt VaV | Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou |
VytisknoutZobrazeno: 24. 8. 2024 18:16