A 2005

PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích

ZAJÍČKOVÁ, Lenka

Základní údaje

Originální název

PECVD a opracování povrchu materiálů v nízkotlakých výbojích

Název anglicky

PECVD and treatment of surfaces in low pressure discharges

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant)

Vydání

2005

Další údaje

Jazyk

čeština

Typ výsledku

Audiovizuální tvorba

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00014527

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

PECVD; plazmochemická depozice; plazma; plazmová modifikace

Štítky

Změněno: 9. 1. 2008 11:17, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

ORIG EN

V originále

Prezentace shrnuje plazmové technologie uplatňované pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů.

Anglicky

The presentations covers plasma technologies used for deposition of thin films and treatment of surfaces.

Návaznosti

1K05025, projekt VaV
Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou