GANCIU, Mihai, Petr VAŠINA, Marcel MEŠKO, Jean-Christophe IMBERT, Ludovic DE POUCQUES, Caroline BOISSE-LAPORTE, Jean BRETAGNE, Michel TOUZEAU, Olivier VOLDOIRE, Marie-Christine HUGON a Bernard AGIUS. Ionized physical vapor deposition by high power fast pulsed magnetron discharge. In Actes du workshop Nouveaux oxydes a forte permittivite dans l integration des semi-conducteurs. Paris: Societe Francaise du Vide, 2005, s. 83-89.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Ionized physical vapor deposition by high power fast pulsed magnetron discharge
Název česky Rychlý pulzní magnetronový výboj velkého výkonu pro IPVD
Autoři GANCIU, Mihai (642 Rumunsko), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant), Marcel MEŠKO (703 Slovensko), Jean-Christophe IMBERT (250 Francie), Ludovic DE POUCQUES (250 Francie), Caroline BOISSE-LAPORTE (250 Francie), Jean BRETAGNE (250 Francie), Michel TOUZEAU (250 Francie), Olivier VOLDOIRE (250 Francie), Marie-Christine HUGON (250 Francie) a Bernard AGIUS (250 Francie).
Vydání Paris, Actes du workshop Nouveaux oxydes a forte permittivite dans l integration des semi-conducteurs, od s. 83-89, 7 s. 2005.
Nakladatel Societe Francaise du Vide
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/05:00013096
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky pulsed magnetron discharge; IPVD
Štítky IPVD, pulsed magnetron discharge
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 23. 2. 2006 15:02.
Anotace
Study of newly developed preionized (by low DC current) high power pulsed magnetron discharge.
Anotace česky
Studium nově vyvinutého pulzního magnetronového výboje s preionizací
Návaznosti
GD202/03/H162, projekt VaVNázev: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 22. 7. 2024 23:30