2005
Optical Characterization of TiO2 Thin Films by the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Photometry
FRANTA, Daniel, Ivan OHLÍDAL a David PETRÝDESZákladní údaje
Originální název
Optical Characterization of TiO2 Thin Films by the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Photometry
Název česky
Optická charakterizace tenkých vrstev TiO2 pomocí kombinované metody spektroskopické elipsometrie a spektroskopické fotometrie
Autoři
FRANTA, Daniel (203 Česká republika, garant), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a David PETRÝDES (203 Česká republika)
Vydání
Vacuum, USA, ELSEVIER (PERGAMON), 2005, 0042-207X
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 0.909
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00014797
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000232674400030
Klíčová slova anglicky
TiO2 films; optical constants; ellipsometry; photometry
Štítky
Změněno: 7. 2. 2006 19:46, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.
V originále
In this paper, results concerning the optical characterization of TiO2 thin films prepared by magnetron sputtering onto K64 glass plane-parallel plates are presented. The spectral dependences of the refractive index and extinction coefficient of these TiO2 thin films are introduced within the spectral region 230-1000 nm. For determining the values of these optical constants the method based on a combination of variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic photometry employing experimental data, of the transmittance and reflectances measured from both the sides of the films is used. For treatment of all the experimental data, the method utilizing Cauchy and Urbach formulae together with the single-wavelength method is employed. It is shown that the TiO2 films studied are homogeneous in refractive index and uniform in thickness. Moreover, the values of roughness parameters of the upper boundaries of the TiO2 films are determined. Furthermore, it is shown that the band gap value of the films corresponds to 400 nm, i.e. 3.1 eV.
Česky
V článku jsou obsaženy výsledky týkající se optické charakterizace tenkých vrstev TiO2 připravených pomocí magnetronového naprašování na destičky ze skla K64. Spektrální závislosti indexu lomu a extinkčního koeficientu těchto TiO2 vrstev jsou uvedeny v spektrální oblasti 230 -1000 nm. Pro určení hodnot těchto optických konstant byla využita metoda založená na kombinaci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické fotometrie využívající data propustnosti a odrazivosti měřené z obou stran vrstvy. Je použita metoda založená na využití Cauchy a Urbachovy formule spolu s metodou jednovlnovou. Je ukázáno, že studované vrstvy TiO2 jsou homogenní v indexu lomu a uniformní v tloušťce. Navíc jsou určeny hodnoty parametrů drsnosti horních rozhraní TiO2 vrstev. Dále je také ukázáno, že hodnota šířky zakázaného pásu vrstev odpovídá 400 nm, tj. 3.1 eV.
Návaznosti
| MSM 143100003, záměr |
|