D 2005

Mechanical properties of amorphous and nanocrystalline silicon thin films on flexible substrates

BURŠÍKOVÁ, Vilma, Petr SLÁDEK and Pavel SŤAHEL

Basic information

Original name

Mechanical properties of amorphous and nanocrystalline silicon thin films on flexible substrates

Name in Czech

Mechanické vlastnosti amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev křemíku na flexibilních substrátech

Authors

BURŠÍKOVÁ, Vilma (203 Czech Republic), Petr SLÁDEK (203 Czech Republic, guarantor) and Pavel SŤAHEL (203 Czech Republic)

Edition

1. vyd. Brno, NENAMAT International Conference Proceedings NANO05, p. 396-399, 4 pp. 2005

Publisher

Brno University of Technology, Faculty of Mechanical Engineering

Other information

Language

English

Type of outcome

Stať ve sborníku

Field of Study

10302 Condensed matter physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14410/05:00014838

Organization unit

Faculty of Education

ISBN

80-214-3085-0

Keywords in English

Mechanical properties; Amorphous silicon; Nanocrystalline Silicon
Změněno: 7/2/2006 12:33, doc. RNDr. Petr Sládek, CSc.

Abstract

V originále

The objective of our study was to investigate the mechanical properties of amorphous and nanocrystalline silicon thin layer deposited on flexible sustrates by means of depth sensing intendation method.

In Czech

DSI technika je jedna z nejvhodnějších metod pro sledování mechanických vlastností tenkých vrstev. Byla použita pro studioum tenkých vrstev amorfního a nanokrystalického křemíku deponovaného na flexibilních substrátech.

Links

MSM0021622411, plan (intention)
Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface