2005
Optical characterization of non-uniform thin films using imaging spectrophotometry
OHLÍDAL, Miloslav, Vladimír ČUDEK, Ivan OHLÍDAL a Petr KLAPETEKZákladní údaje
Originální název
Optical characterization of non-uniform thin films using imaging
spectrophotometry
Název česky
Optická charakterizace neuniformních tenkých vrstev pomocí zobrazovací
spektrofotometrie
Autoři
OHLÍDAL, Miloslav (203 Česká republika, garant), Vladimír ČUDEK (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Petr KLAPETEK (203 Česká republika)
Vydání
Bellingham, Washington, USA, Advances in Optical Thin Films II, od s. 596329-1-596329-9, 9 s. 2005
Nakladatel
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10306 Optics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/05:00013299
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
0-8194-5981-X
Klíčová slova anglicky
Non-uniforn Thin Films; Imaging Spectrophotometry; Epitaxial ZnSe Thin Films
Změněno: 28. 2. 2006 19:40, prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
V originále
In this paper the method of imaging spectrophotometry enabling us to characterize non-absorbing thin films non-uniform in the optical parameters is described. This method is based on interpreting the spectral dependences of the local absolute reflectances measured at the normal incidence of light. It is shown how to determine the area distribution of thickness and refractive index of the non-absorbing non-uniform thin films by treating these reflectances. Moreover, the generalization of the method for the optical characterization of slightly absorbing non-uniform thin films is also indicated. Furthermore, the two-channel imaging spectrophotometer enabling us to apply the method of imaging reflectometry is described. The procedure for determining the spectral dependences of the local absolute reflectance in the points aligned in a matrix situated on the illuminated area of the non-uniform thin film by means of the spectrophotometer is also presented. The practical advantages of the method are specified. The method is illustrated by means of the optical characterization of a selected epitaxial ZnSe thin film prepared using molecular beam epitaxy onto gallium arsenide single-crystal substrate.
Česky
V článku je popsána metoda zobrazovací spektrofotometrie, která umožňuje charakterizovat neabsorbující tenké vrstvy neuniformní v optických parametrech. Tato metoda je založena na interpretaci spektrálních závislostí lokální absolutní odrazivosti naměřených při kolmém dopadu světla. Je ukázáno jak určit plošné rozdělení tloušťky a indexu lomu neabsorbujících neuniformních tenkých vrstev zpracováním těchto odrazivostí. Navíc zobecnění metody pro optickou charakterizaci slabě absorbujících neuniformních tenkých vrstev je také naznačena. Kromě toho je popsán dvoukanálový zobrazovací spektrofotometr dovolující aplikovat metodu zobrazovací reflektometrie. Metoda pro určení spektrálních závislostí lokální absolutní odrazivosti v bodech seřazených do matice umístěné na osvětlené ploše neuniformní vrstvy pomocí spektrofotometru je také presentována. Praktické výhody metody jsou specifikovány. Metoda je ilustrována pomocí optické charakterizace vybrané epitaxní tenké vrstvy ZnSe připravené použitím molekulové svazkové epitaxie na podložku tvořenou monokrystalem galium arsenidu.
Návaznosti
| GA101/04/2131, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|