D 2004

X-ray reflection study of early stages of Pt silicide formation

BOCHNÍČEK, Zdeněk, Jan ČECHAL a Tomáš ŠIKOLA

Základní údaje

Originální název

X-ray reflection study of early stages of Pt silicide formation

Název česky

Studium počátečních fází silicidace Pt metodou rtg reflexe

Autoři

BOCHNÍČEK, Zdeněk (203 Česká republika, garant), Jan ČECHAL (203 Česká republika) a Tomáš ŠIKOLA (203 Česká republika)

Vydání

Praha, 7th Bienal Conference on High Resolution X-ray Diffraction and Imaging, Book of abstracts, od s. P7, 1 s. 2004

Nakladatel

Fyzikální ústav AV ČR

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

silicidation; Pt; XRR

Štítky

Změněno: 28. 4. 2006 17:23, doc. RNDr. Zdeněk Bochníček, Dr.

Anotace

ORIG CZ

V originále

X-ray reflection measured in-situ during annealing was used for studying of very early stages of silicide formation from Pt layer deposited on Si substrate. It was shown that interdiffusion betwen two components at temperatures slightly above 100degC which is much lower value than is reported for silicide creation observed by other experimental methods.

Česky

Velmi časná stadia silicidace vrstvy platiny deponované na Si substrátu byla měřena s pomocí reflexe rtg záření při žíhání in-situ. Bylo zjištěno, že interdifuye mezi vrstvami začíná již za teplot nad 100stC, což je mnohem nižší hodnota, než než je teplota běžně udávaná pro počátek vzniku silicidu platiny.

Návaznosti

MSM 143100002, záměr
Název: Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur