2006
Microwave PECVD of nanocrystalline diamond with rf induced bias nucleation
FRGALA, Zdeněk, Ondřej JAŠEK, Monika KARÁSKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ et. al.Základní údaje
Originální název
Microwave PECVD of nanocrystalline diamond with rf induced bias nucleation
Název česky
Depozice nanokystalickéhi diamantu metodou mikrovlnného PECVD s nukleací pomocí rf predpětí
Autoři
FRGALA, Zdeněk (203 Česká republika, garant), Ondřej JAŠEK (203 Česká republika), Monika KARÁSKOVÁ (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Jiřina MATĚJKOVÁ (203 Česká republika), Antonin REK (203 Česká republika), Petr KLAPETEK (203 Česká republika) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)
Vydání
Czechoslovak Journal of Physics B, Praha, Institute of Physics, AV ČR, 2006, 0011-4626
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 0.568
Kód RIV
RIV/00216224:14310/06:00015900
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000241337000029
Klíčová slova anglicky
nanocrystalline diamond; plasma enhanced chemical vapor deposition; self-bias
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 11. 12. 2006 13:27, Mgr. Ondřej Jašek, Ph.D.
V originále
Nanocrystalline diamond film was deposited by microwave CVD in the ASTeX type reactor on a mirror polished (111) oriented n-doped silicon substrate. The deposition mixture consisted of 9 % of methane in hydrogen. The applied microwave power (2.45 GHz) and pressure were 850 W and 7.5 kPa, respectively. The substrate temperature was 1 090 K. The diamond nucleation process was enhanced by rf induced dc self {bias of -125 V. The film exhibited very low roughness (rms of heights 9.1 nm). Its hardness and elastic modules were 70 and 375 GPa, respectively. The optical constants were determined by combination of spectroscopic ellipsometry and reflectometry employing the Rayleigh-Rice theory for the roughness and the dispersion model of optical constants based on the parameterization of densities of states. The deposition rate was 57 nm/min including the 5 min nucleation step.
Česky
Vrtsvy nanokrystalického diamantu byly připraveny metodou mikrovlnného CVD v reaktoru typu ASTEX na leštěných n-typ dopovaných křemíkových substrátech s orientací (111). Depoziční směs obsahovala 9% metanu ve vodíku. Dodávaný mikrovlnný výkon (2,45 GHz) byl 850 W a tlak byl 7,5 kPa. Teplota substrátu byla 1090 K. Nukleační proces probíhal za pomocí předpětí(-125 V) vytvářeného pomocí vysokofrekvenčního výboje. Deponované vrstvy se jevily jako velmi hladké ( rms tloušťky 9,1 nm). Tvrdost a elastický modul byly 70 a 375 GPa. Optické konstanty byly určeny kombinací spektroskopické elipsometrie a refletometrie za použití Rayleigh-Riceovi teorie pro drsnost a disperzního modelu pro optické konstanty založeného na parametrizaci hustot stavů. Depoziční rychlost byla 57 nm/min včetně 5 minutové nukleační fáze.
Návaznosti
| GA202/05/0607, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|