JAŠEK, Ondřej, Marek ELIÁŠ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Zuzana KUČEROVÁ, Vít KUDRLE, Jiřina MATĚJKOVÁ, Antonín REK and Jiří BURŠÍK. Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition. In Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference. 1st ed. Brno: Vysoké učenní technické v Brně, 2006, p. 21-26. ISBN 80-214-3246-2.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition
Name in Czech Depozice uhlíkových nanotrubek metodou depozice z plynné fáze s asistencí plazmatu
Authors JAŠEK, Ondřej (203 Czech Republic, guarantor), Marek ELIÁŠ (203 Czech Republic), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic), Zuzana KUČEROVÁ (203 Czech Republic), Vít KUDRLE (203 Czech Republic), Jiřina MATĚJKOVÁ (203 Czech Republic), Antonín REK (203 Czech Republic) and Jiří BURŠÍK (203 Czech Republic).
Edition 1. vyd. Brno, Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference, p. 21-26, 6 pp. 2006.
Publisher Vysoké učenní technické v Brně
Other information
Original language English
Type of outcome Proceedings paper
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
RIV identification code RIV/00216224:14310/06:00015901
Organization unit Faculty of Science
ISBN 80-214-3246-2
Keywords in English carbon nanotubes; plasma enhanced chemical vapor depostion; catalyst; electron microscopy
Tags carbon nanotubes, CATALYST, electron microscopy
Tags International impact
Changed by Changed by: prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D., učo 2560. Changed: 6/6/2008 12:23.
Abstract
Carbon nanotube properties provoked interest in many fields of application but there is still need to develop deposition techniques, which enable precise control of nanotubes positioning, alignment and properties. Chemical vapor deposition (CVD) methods and lately also plasma enhanced CVD (PECVD) are most promising to reach this goal. In the first part of the article we will briefly describe carbon nanotubes structure and properties and review the necessary conditions and possible control mechanisms used in PECVD deposition method. In the second part, examples of two deposition techniques, one working at a low pressure and one at an atmospheric pressure, will be described and reached results analyzed.
Abstract (in Czech)
Uhlíkové nanotrubky se díky svým vlastnostem dostaly do popředí zájmu v mnoha aplikačních oblastech. Pro mnohé aplikace je však stále potřeba vyvinout metody depozice umožňující co nejpřesnější kontrolu vlastností deponovaných nanotrubek a také jejich uspořádání popřípadě přesné umisťování. Metody depozice s plynné fáze (CVD) popřípadě také v plazmatu (PECVD) se jeví jako velmi slibné pro dosažení těchto cílů. V úvodní části stručně shrneme vlastnosti a popis struktury uhlíkových nanotrubek a uvedeme základní podmínky a postupy při depozici uhlíkových nanotrubek metodou PECVD. V druhé části se pak budeme stručně věnovat depozici uhlíkových nanotrubek ve dvou experimentech s odlišnými depozičními podmínkami(depozice za nízkého tlaku a depozice za atmosférického tlaku).
Links
GA202/05/0607, research and development projectName: Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi
Investor: Czech Science Foundation, Synthesis of carbon micro- and nanostructures by plasma technologies
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 5/10/2024 03:18