2006
Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition
JAŠEK, Ondřej, Marek ELIÁŠ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Zuzana KUČEROVÁ, Vít KUDRLE et. al.Základní údaje
Originální název
Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition
Název česky
Depozice uhlíkových nanotrubek metodou depozice z plynné fáze s asistencí plazmatu
Autoři
JAŠEK, Ondřej (203 Česká republika, garant), Marek ELIÁŠ (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Zuzana KUČEROVÁ (203 Česká republika), Vít KUDRLE (203 Česká republika), Jiřina MATĚJKOVÁ (203 Česká republika), Antonín REK (203 Česká republika) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)
Vydání
1. vyd. Brno, Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference, od s. 21-26, 6 s. 2006
Nakladatel
Vysoké učenní technické v Brně
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/06:00015901
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
80-214-3246-2
Klíčová slova anglicky
carbon nanotubes; plasma enhanced chemical vapor depostion; catalyst; electron microscopy
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam
Změněno: 6. 6. 2008 12:23, prof. Mgr. Vít Kudrle, Ph.D.
V originále
Carbon nanotube properties provoked interest in many fields of application but there is still need to develop deposition techniques, which enable precise control of nanotubes positioning, alignment and properties. Chemical vapor deposition (CVD) methods and lately also plasma enhanced CVD (PECVD) are most promising to reach this goal. In the first part of the article we will briefly describe carbon nanotubes structure and properties and review the necessary conditions and possible control mechanisms used in PECVD deposition method. In the second part, examples of two deposition techniques, one working at a low pressure and one at an atmospheric pressure, will be described and reached results analyzed.
Česky
Uhlíkové nanotrubky se díky svým vlastnostem dostaly do popředí zájmu v mnoha aplikačních oblastech. Pro mnohé aplikace je však stále potřeba vyvinout metody depozice umožňující co nejpřesnější kontrolu vlastností deponovaných nanotrubek a také jejich uspořádání popřípadě přesné umisťování. Metody depozice s plynné fáze (CVD) popřípadě také v plazmatu (PECVD) se jeví jako velmi slibné pro dosažení těchto cílů. V úvodní části stručně shrneme vlastnosti a popis struktury uhlíkových nanotrubek a uvedeme základní podmínky a postupy při depozici uhlíkových nanotrubek metodou PECVD. V druhé části se pak budeme stručně věnovat depozici uhlíkových nanotrubek ve dvou experimentech s odlišnými depozičními podmínkami(depozice za nízkého tlaku a depozice za atmosférického tlaku).
Návaznosti
| GA202/05/0607, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|