Electron Density and Ion Flux in Diffusion Chamber of Low Pressure RF Helicon Reactor

ŠMÍD, Radek, Agnès GRANIER, Angelique BOUSQUET, Gilles CARTRY a Lenka ZAJÍČKOVÁ. Electron Density and Ion Flux in Diffusion Chamber of Low Pressure RF Helicon Reactor. In WDS'06 Proceedings of Contributed Papers, Part II. Praha: MATFYZPRESS, 2006, s. 150-155. ISBN 80-86732-85-1.

Základní údaje

• Originální název: Electron Density and Ion Flux in Diffusion Chamber of Low Pressure RF Helicon Reactor
• Název česky: Koncentrace elektronů a tok iontů v difúzní komoře nízkotlakého vf helikonového reaktoru
• Autoři: ŠMÍD, Radek (203 Česká republika, garant), Agnès GRANIER (250 Francie), Angelique BOUSQUET (250 Francie), Gilles CARTRY (250 Francie) a Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika).
• Vydání: Praha, WDS'06 Proceedings of Contributed Papers, Part II, od s. 150-155, 6 s. 2006.
• Nakladatel: MATFYZPRESS

Další údaje

• Originální jazyk: angličtina
• Typ výsledku: Stať ve sborníku
• Obor: 10305 Fluids and plasma physics
• Stát vydavatele: Česká republika
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/06:00016195
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• ISBN: 80-86732-85-1
• Klíčová slova anglicky: Langmuir probe; planar probe; ion flux; electron density
• Štítky: electron density, ion flux, Langmuir probe, planar probe
• Příznaky: Mezinárodní význam, Recenzováno

Anotace

The electron density, ion flux and argon emission lines were measured in a radio frequency helicon reactor for different static magnetic field amplitude and low rf powers using cylindrical Langmuir probe, planar probe and optical emission spectroscopy (OES). The static magnetic field amplitude created around the plasma source varied from 0 to 10 mT in the helicon source and from 0 to 1.4 mT in the diffusion chamber. The discharge was created in argon and oxygen at 0.7 Pa with rf powers, between 50 and 600 W, applied to the helicon antenna. The variations of the electron density, ion flux taken from Langmuir probe measurement and from planar probe measurement and Ar 750 nm line intensity with the rf power were in good agreement. Hence, it is concluded that the maximum of electron density observed in the diffusion chamber for the highest values of magnetic field is likely to be due to some confinement of the plasma in the source. Measurements in oxygen discharge showed slightly different results.

Anotace česky

Koncentrace elektronů a tok iontů byli měřeny ve vysokofrekvenčním helikonovém reaktoru pří různých magnetických polích, tlaku 0,7 Pa a při vf výkonech 25-600 W pomocí válcové Langmuirovy sondy, planární sondy a optické emisní spetroskopie. Výsledky byly srovnávány.

Návaznosti

• GD202/03/H162, projekt VaV: Název: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu

Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu

• MSM0021622411, záměr: Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek