FRANTA, Daniel, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Thomas BEGOU, Angelique BOUSQUET, Agnes GRANIER, Bruno BECHE a Antoine GOULLET. Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states. In 4th Workshop Ellipsometry. 2006. vyd. Berlin: Uwe Beck, 2006, s. 110-111, 1 s. ISBN 3-00-018751-0.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states
Název česky Modelovani optickych konstant organosilikonovych vrstev pomoci paramtrizave hustoty stavu
Autoři FRANTA, Daniel (203 Česká republika, garant), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika), Thomas BEGOU (250 Francie), Angelique BOUSQUET (250 Francie), Agnes GRANIER (250 Francie), Bruno BECHE (250 Francie) a Antoine GOULLET (250 Francie).
Vydání 2006. vyd. Berlin, 4th Workshop Ellipsometry, od s. 110-111, 1 s. 2006.
Nakladatel Uwe Beck
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/06:00018470
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 3-00-018751-0
Klíčová slova anglicky optical-konstant-organosilicon-density-states
Štítky optical-konstant-organosilicon-density-states
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 25. 1. 2007 22:04.
Anotace
Modeling of optical constants of organosilicon thin films by parameterization of denstity of states
Anotace česky
Modelovani optickych konstant organosilikonovych vrstev pomoci paramtrizave hustoty stavu
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaVNázev: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
VytisknoutZobrazeno: 3. 8. 2024 10:17