DVOŘÁK, Pavel a Jan JANČA. Hydrogen dissociation degree in capacitively coupled discharge. In 16th Symposium on Application of Plasma Processes - Book of Abstracts. Bratislava: Union of Slovak Mathematicians and Physicists, 2007, s. 153-154. ISBN 978-80-89186-13-6.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Hydrogen dissociation degree in capacitively coupled discharge
Název česky Disociační stupeň vodíku v kapacitně vázaném výboji
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant) a Jan JANČA (203 Česká republika).
Vydání Bratislava, 16th Symposium on Application of Plasma Processes - Book of Abstracts, od s. 153-154, 2 s. 2007.
Nakladatel Union of Slovak Mathematicians and Physicists
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Slovensko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/07:00021993
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-89186-13-6
Klíčová slova anglicky hydrogen; dissociation degree; plasma
Štítky dissociation degree, Hydrogen, plasma
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 28. 3. 2007 18:46.
Anotace
Results of optical emission spectroscopy of hydrogen low-pressure capacitively coupled RF discharge are presented. It was shown, that the dissociation degree of hydrogen molecules was sensitive to the sheath voltages. Further, the plasma temperatures were measured.
Anotace česky
Pomocí optické emisní spektroskopie byly stanoveny disociační stupeň molekul vodíku v kapacitně vázaném výboji a teploty plazmatu. Disociační stupeň byl citlivý na změny napětí na stěnových vrstvách prostorového náboje u elektrod.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 1. 5. 2024 19:23