2007
Influence of methane on capacitively coupled oxygen discharge
DOLEŽAL, Vojtěch, Pavel DVOŘÁK a Jan JANČAZákladní údaje
Originální název
Influence of methane on capacitively coupled oxygen discharge
Název česky
Vliv metanu na kapacitně vázaný kyslíkový výboj
Autoři
DOLEŽAL, Vojtěch (203 Česká republika, garant), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika)
Vydání
Bratislava, 16th Symposium on Application of Plasma Processes - Book of Abstracts, od s. 149-150, 2 s. 2007
Nakladatel
Union of Slovak Mathematicians and Physicists
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Slovensko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/07:00020196
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-89186-13-6
Klíčová slova anglicky
oxygen; methane; capacitively coupled; plasma
Štítky
Změněno: 28. 3. 2007 18:59, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.
V originále
In this work the mixture of oxygen and a small amount (0-5%) of methane was studied. The measurements were carried out in low-pressure (6.5 Pa) capacitively coupled RF discharge. Positive ions and neutral particles were detected by mass spectrometer and ion energy analyzer. O2+ was the dominating ion in the discharge. Its amount was significantly decreased when a small amount of methane was added. H3O+ and carbon containing ions as C2H7+, CHO+ (C2H5+), CH3+ and CO+ were consequently detected. The flux of neutral particles were composed of dominant O2 which decreased with increasing amount of methane, and expected important product species as H2O, CO2 and CO.
Česky
Vliv metanu na kyslíkový kapacitně vázaný výboj byl studován pomocí hmotnostního a energiového spektrometru. Dominantním iontem ve výboji byl kyslíkový iont O2+, jehož množství bylo výrazně redukováno přidáním příměsi metanu. Dále byly detekovány především ionty C2H7+, CHO+, CH3+ a cO+, neutrálním produktům reakcí přirozeně dominovaly H2O, CO2 a CO.
Návaznosti
GD202/03/H162, projekt VaV |
| ||
MSM0021622411, záměr |
|