2007
Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges
ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Vilma BURŠÍKOVÁ, Zuzana KUČEROVÁ, Daniel FRANTA, Pavel DVOŘÁK et. al.Základní údaje
Originální název
Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges
Název česky
Depozice ochranných vrstev ve vysokofrekvenčních výbojích v parách organosilikonu
Autoři
ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Zuzana KUČEROVÁ (203 Česká republika), Daniel FRANTA (203 Česká republika), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Radek ŠMÍD (203 Česká republika), Vratislav PEŘINA (203 Česká republika) a Anna MACKOVÁ (203 Česká republika)
Vydání
Plasma Sources Science and Technology, Bristol, Institute of Physics Publishing, 2007, 0963-0252
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 2.120
Kód RIV
RIV/00216224:14310/07:00022271
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000244370700016
Klíčová slova anglicky
CARBON-FILMS; GLOW-DISCHARGES; PLASMA; PECVD; POLYCARBONATE; SUBSTRATE
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 3. 1. 2011 11:26, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.
V originále
The paper discusses the deposition of protective coatings ranging from organosilicon plasma polymers to SiO2-like films and hard diamond-like carbon/silicon oxide (DLC : SiOx) coatings in radio frequency capacitively coupled discharges using hexamethyldisiloxane (HMDSO). As a result of the optimization of the deposition conditions it was possible to obtain high performance protective coatings. In the HMDSO/O-2 mixture, it was shown that rather than the SiO2-like film a hard cross-linked SiOx C-y H-z polymer film can be used as a protective coating for polycarbonate. The optimum conditions for the deposition of an almost stress-free film were 17% of HMDSO and dc bias voltage of -240V. The film hardness and elastic modulus were 10GPa and 75GPa, respectively. The refractive index at 600 nm was 1.5 and the extinction coefficient decreased from 0.02 at 240 nm down to zero at 600 nm. The films deposited from HMDSO/CH4 and HMDSO/CH4/H-2 mixtures exhibited the attractive properties of DLC films with the partial elimination of some of their drawbacks, such as absorption in the visible and a high intrinsic stress. The optimum concentration of the HMDSO was approximately 21%. Under these conditions the concentration of SiOx in the films was approximately 9 at.%. The film hardness and elastic modulus were above 22 GPa and 120 GPa, respectively.
Česky
Článek diskutuje depozici různých typů ochranných vrstev, organosilikonových plazmových polymerů, SiO2 vrstev a tvrdých uhlíkových diamantu podobných vrstev s obsahem SiOx (DLC:SiOx), ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji s použitím hexametyldisiloxanu (HMDSO). Vrstvy připravené z HMDSO/CH4 a HMDSO/CH4/H2 směsí vykazovaly atraktivní vlastnosti DLC vrstev s částečným optlačením jejich některých nevýhod jako jsou absorpce ve viditelné oblasti a vysoké vnitřní pnutí.
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
| ||
| 1K05025, projekt VaV |
|