2007
Study of thickness reduction of a-C:H thin film under UV light irradiation
VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Ivan OHLÍDAL a Václav DUCHOŇZákladní údaje
Originální název
Study of thickness reduction of a-C:H thin film under UV light irradiation
Název česky
Studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření
Autoři
VALTR, Miroslav (203 Česká republika, garant), Petr KLAPETEK (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Václav DUCHOŇ (203 Česká republika)
Vydání
Prague, Proceedings of ICPIG XXVIII Conference, od s. 761-764, 4 s. 2007
Nakladatel
Institute of Plasma Physics AS CR
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/07:00019457
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-87026-01-4
Klíčová slova anglicky
Carbon; Oxidation; Optical Properties
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 10. 1. 2010 17:35, Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D.
V originále
In this paper we present a study of thickness reduction of an amorphous hydrocarbon (a-C:H) thin film under UV light irradiation. Optical parameters of the film are examined by means of spectroscopic ellipsometry and area reflectance measurement. We observed a linear dependence in thickness reduction. The reduction velocity is 10.1 nm/h in this region. However, if the thickness of the film was less then approx. 14 nm, the reduction velocity decreases subsequently. Area reflectance measurement consisting in taking reflectance spectra in many points lying along the area of the sample is used to create a map with thickness distribution along this area. This method is very sensitive to small thickness variations.
Česky
V příspěvku je prezentováno studium redukce tlouštky amorfní uhlíkové tenké vrstvy vlivem UV záření. Optické parametry vrstvy jsou určovány pomocí spektroskopické elipsometrie a plošného měření reflektance. Byla pozorována lineární závislost v poklesu tlouštky vrstvy. Rychlost je poklesu 10,1 nm/h. Avšak pokud byla tlouštka vrstvy menší než cca 14 nm, rychlost poklesu tlouštky vrstvy se postupně zmenšovala. Měření plošné reflektance, spočívající v naměření odrazivosti v mnoha bodech na povrchu vzorku, se využilo ke stanovení rozložení tlouštky. Tato metoda je velmi citlivá k malým změnám tlouštky.
Návaznosti
| KAN311610701, projekt VaV |
|