J 2007

UV light enhanced oxidation of a-C:H thin film in air: A study of thickness reduction

VALTR, Miroslav, Petr KLAPETEK, Ivan OHLÍDAL a Daniel FRANTA

Základní údaje

Originální název

UV light enhanced oxidation of a-C:H thin film in air: A study of thickness reduction

Název česky

Oxidace a-C:H tenké vrstvy pod UV světlem na vzduchu. Studie poklesu tloušťky

Autoři

VALTR, Miroslav (203 Česká republika, garant), Petr KLAPETEK (203 Česká republika), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Daniel FRANTA (203 Česká republika)

Vydání

Optoelectronics and Advanced Materials - Rapid Communications, Bucharest, INOE & INFM, 2007, 1842-6573

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/07:00019537

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000253725500014

Klíčová slova anglicky

Amorphous carbon;Thin film;Optical properties;a-C:H;UV enhanced oxidation;Reflectance spectra

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 4. 7. 2009 18:59, Mgr. Miroslav Valtr, Ph.D.

Anotace

V originále

UV light enhanced oxidation of a-C:H thin film in air: A study of thickness reduction.

Česky

Oxidace a-C:H tenké vrstvy pod UV světlem na vzduchu. Studie poklesu tloušťky.

Návaznosti

KAN311610701, projekt VaV
Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek